收藏本页服务热线:021-62208085   400-088-1622
产品

产品[

ICS1000NIR 近红外热像显微镜

]资料
名称: ICS1000NIR 近红外热像显微镜
型号: ICS1000NIR
生产厂商:Reltron
应用行业:SEMI >>
浏览次数:2331
无相关文档

简单介绍

ICS1000NIR 近红外热像显微镜,系统使用便捷,其优化的NIR显微镜实现了600〜1200nm的倍频成像。ICS1000NIR 显微镜

ICS1000NIR 近红外热像显微镜

   的详细介绍
ICS1000NIR 近红外热像显微镜



ICS1000NIR 近红外热像显微镜的应用:

  •  通过体硅预检测及观察集成电路背面

  •  残留硅厚度测量

  •  硅结构分析

  •  便携式光子发射摄像机(带升级)

  •  激光二极管检测

ICS1000NIR 近红外热像显微镜的选项功能:

  •  140万像素高分辨率加强型NIR数码摄像机
  •  残留硅厚度测量选件
  •  ICS1000超便携式控制器
  •  便携式光子发射摄像机升级
  •  Windows Vista商业版操作系统

ICS1000NIR 近红外热像显微镜的基本功能:

  •  
优化的1:7缩放NIR显微镜可观察630nm 2um的波长
  •  长焦距 NIR物镜
  •  加强型NIR数码摄像机
  •  集成USB控制1060nm单色光照明装置
  •  亚微米精密电子聚焦模块
  •  标有0.1mm刻度的X-Y阶段为安装样本进行准确定位
  •  ICS1000 成像软件套件支持Win XP/ Pro系统
  •  ICS1000桌面系统控制器占地面积小
  •  ICS1000NIR 影响图库
  •  IC背面预检测
  •  IC 表面 IC电路

在背面预检测期间进行覆晶封装集成电路的表面检查工作是非常重要的,它能确保高质量的结 果。左图显示的是设备表面,将采用先进的RKD NanoPrep技术预检测其背面。此设备已经做好了背面光子发射准备且没有为采集的图像移除表面碎屑。然后,ICS1000NIR聚焦到下面的电路。右 图显示的是使用220um ICS1000NIR测量残留硅的厚度。请注意,我们系统中的集成单色照明装置是如何穿透背面的硅,甚至在有碎屑的情况下,产生清晰的图像!

穿透53um的硅产生的IC背面成像。140万像素;ICS1000成像软件套件可利用按下按钮产生的日期,时间和规模信息自动标记图像。观察有细微裂纹的单晶硅太阳能电池;20X物镜。




Copyright© 2003-2018  锐驰科技有限公司  版权所有  

友情连接QQ:2355270500



沪ICP备09054082号-4
扫描二维码访问
 

沪公网安备 31011202007278号